Видео ютуба по тегу Double Patterning

Tech Talk: 22 нм FD-SOI
Tech Talk: 22 нм FD-SOI
Мультипаттернинг, дубль 2 (2014)
Мультипаттернинг, дубль 2 (2014)
Chris Bencher: New lithography technologies gain a foothold
Chris Bencher: New lithography technologies gain a foothold
20 nm CD EUV Stochastics for Direct Print and Double Patterning
20 nm CD EUV Stochastics for Direct Print and Double Patterning
Multi Pattern Lithography : Landmark in VLSI Technology !
Multi Pattern Lithography : Landmark in VLSI Technology !
Как отладить результаты двойного паттернирования с помощью Calibre RealTime
Как отладить результаты двойного паттернирования с помощью Calibre RealTime
Двойной-тройной узор (2016)
Двойной-тройной узор (2016)
ASML Double Patterning: the dual carriage way to smaller chip
ASML Double Patterning: the dual carriage way to smaller chip
Вивек Сингх: Исследования в области литографии
Вивек Сингх: Исследования в области литографии
Эп11 Нанопроизводство, электронно-лучевая и фотолитография, закон Мура. Калифорнийский университет в Сан-Диего, NANO 11/101, Даррен Липоми
Эп11 Нанопроизводство, электронно-лучевая и фотолитография, закон Мура. Калифорнийский университет в Сан-Диего, NANO 11/101, Даррен Липоми
🎙️ Double Patterning: Graph Theory and SPQR Decomposition
🎙️ Double Patterning: Graph Theory and SPQR Decomposition
L4-A3 Advanced Lithography and Patterning
L4-A3 Advanced Lithography and Patterning
Nanoscale Displacement Sensing by Zheng Xi
Nanoscale Displacement Sensing by Zheng Xi
Why VLSI??? #vlsidesign #vlsi #intelugu
Why VLSI??? #vlsidesign #vlsi #intelugu
ASML Double Patterning the dual carriage way to smaller chip
ASML Double Patterning the dual carriage way to smaller chip
Технология формирования узоров Applied Materials
Технология формирования узоров Applied Materials
Сэм Сивакумар из Intel рассказывает о литографии и нанесении рисунков: часть 3
Сэм Сивакумар из Intel рассказывает о литографии и нанесении рисунков: часть 3
Методы многошаблонного моделирования: достижение размеров, выходящих за пределы разрешения литографии
Методы многошаблонного моделирования: достижение размеров, выходящих за пределы разрешения литографии
patterning the stevens 301 turkey with the winchester double x .410 lead load | bco review |
patterning the stevens 301 turkey with the winchester double x .410 lead load | bco review |
Samsung Semiconductor объясняет принципы фотолитографии и EUV-печати за 5 минут
Samsung Semiconductor объясняет принципы фотолитографии и EUV-печати за 5 минут
шаблон для чока Stevens 301 Turkey Stock с двойными патронами Winchester | обзор BCO |
шаблон для чока Stevens 301 Turkey Stock с двойными патронами Winchester | обзор BCO |
Графические модели: двойные вершины и двойные дна
Графические модели: двойные вершины и двойные дна
Двойной узор спешит на помощь (двойной узор с самовыравниванием) — Часть 2
Двойной узор спешит на помощь (двойной узор с самовыравниванием) — Часть 2
ASML — Двойная структура: двухполосная дорога для более мелкого щебня
ASML — Двойная структура: двухполосная дорога для более мелкого щебня